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UV光氧催化設備分解過程

來源:未知 ?? 作者: 本藍環(huán)保; 發(fā)布日期:2021-07-08 11:47

UV光氧催化設備分解過程
 
光降解通常是指有機物在光*的作用下逐漸氧化成低分子中間產物,壽命變?yōu)镃O2、H2O等離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機物的光降解可分為直接光降解和間接光降解。前者是指有機分子吸收光能后發(fā)生的進一步化學反應。后者是周圍環(huán)境中的一些物質吸收光能進入激發(fā)態(tài),進而誘發(fā)一系列有機污染反應。對于環(huán)境中難以生物降解的有機污染物,間接光降解更為重要。
 
光化學反應降解污染物的方法有無催化劑光氧化和有催化劑光氧化。前者多以氧氣和過氧化氫為氧化劑,在紫外光照射下氧化分解污染物;后者又稱為光催化氧化,一般可分為均相催化和非均相催化。在均相光催化降解中,以Fe2+或Fe3+和H2O2為介質,通過光芬頓反應降解污染物。在非均相光催化降解中,在污染體系中加入一定量的光敏半導體材料,結合一定量的光輻射,使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產生電子-空穴對。半導體上吸附的溶解氧和水分子與電子-空穴相互作用,產生HO等強氧化性自由基,通過與污染物的羥基加成、取代和電子轉移方程,使其完全或幾乎完全礦化。